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『簡體書』电子发射产生机制与影响因素分析

書城自編碼： 4180954
分類：簡體書→大陸圖書→工業技術→電子/通信
作者： 曾利霞
國際書號(ISBN)： 9787560677521
出版社： 西安电子科技大学出版社
出版日期： 2024-10-01

頁數/字數： /
書度/開本： 16开 釘裝： 平装

售價：HK$ 33.0

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本书共6章。
第1章介绍了高电荷态离子的特点及其产生方式，梳理了高电荷态离子与固体表面的相互作用过程及研究进展，阐述了对电子发射产额进行研究的意义及进展，讨论了电子发射的机制及影响因素。
第2章介绍了电子发射实验装置（中国科学院近代物理研究所自行设计的320 kV高电荷态离子综合实验平台上的超高真空表面物理实验终端）、靶材的处理、加热模块的工作原理以及高电荷态离子入射固体靶材表面时电子发射产额的测量方法（包括电子数统计法和靶电流法）。
第3章梳理了Neq+（q=2，4，6，8）垂直入射到Si表面时电子发射产额的测量结果，分析了电荷态对势能电子发射和动能电子发射的影响。
第4章基于Ne2+、O2+分别正入射W表面时电子发射产额的测量结果，分析了Ne2+、O2+分别与W表面作用过程中的电子发射产额机制，讨论了在一定能量范围内，反冲原子对电子发射产额的影响。
第5章探究了Xe17+垂直入射到SiC表面时电子发射产额随靶材温度的变化关系，分析了靶材温度对电子发射产额的影响。
第6章基于1.8 MeV Xeq+轰击不同掺杂类型的Si表面时电子发射产额的测量结果，分析了靶材掺杂类型对电子发射产额的
內容簡介：
本书系统地介绍了高电荷态离子与固体表面相互作用过程中的电子发射现象。在介绍高电荷态离子的特点、产生方式，高电荷态离子与固体表面相互作用过程及其研究进展的基础上，本书探讨了对电子发射产额进行研究的现状和意义，详细阐述了电子发射实验装置（包括14.5 GHz电子回旋共振离子源、束线系统、超高真空靶室等设备）和测量方法（电子数统计法和靶电流法）等内容。本书最后分别从入射离子电荷态、反冲原子、靶材温度、靶材掺杂类型等角度，深入分析了各因素对电子发射产额的影响，并通过实验和理论进行验证。丰富的实验数据和严谨的理论分析，可帮助读者理解电子发射的机制及其物理规律。
本书可供材料科学、原子物理、等离子体物理等专业的学生学习，还可供相关领域的高校师生、科研人员及工程技术人员参考使用。

 

 

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